佳能发布5纳米压印技术:对ASML的打击、对芯片行业的启示 日前,日本芯片设备企业佳能发布了5纳米压印技术,这项技术可以大幅降低芯片生产难度和成本,对于光刻机龙头ASML无疑是重锤打击。ASML的研发了浸润式的DUV光刻机,后来又联合美国研发EUV光刻机,由此奠定了它的龙头地位,占有光刻机市场近六成的市场份额。尼康延续了ASML的技术路线,但是只是研发成功浸润式光刻机。佳能走了另外一条路,将电路图如印章那样压印在晶圆上,再通过刻蚀机将电路图刻蚀出来就能得到芯片,此前佳能已实现10纳米压印技术并被日本铠侠采用,证明了这项技术的可行性,如今它发布5纳米压印技术,再次取得重大突破。 ASML的EUV光刻机需要庞大的透镜阵列产生波长极短的极紫外光,还有诸多辅助器件,一台EUV光刻机就需要45万个部件,全球5000家企业配合,导致EUV光刻机成本极高,以至于一台EUV光刻机售价达到3亿多美元;同时庞大的系统还导致它需要耗费巨量的电力,这都大幅提升了光刻机的生产成本。 目前台积电是以第一代EUV光刻机生产3纳米工艺,导致3纳米工艺良率低至55%,性能却只能提升10%;如果采用第二代EUV光
招聘范围主要集中在北京、上海、成都,主要招聘经验要求为1-3年,学历要求为本科的岗位。
公司参与招标15次,招标金额为227.56(万元),公司参与中标502次,中标金额为25819.46(万元),最近项目为:中央国家机关2023年打印机批量集中采购项目-6月中标公告、中国地震局机关服务中心(中国地震局机关服务局)采购电子验收单公示、中国地质调查局廊坊自然资源综合调查中心采购电子验收单公示。